UV AOP
UV AOP
UV-AOP (Ultraviolet-Advanced Oxidation Process) UV-고도산화처리
UV와 산화제가 반응하여 생성된 하이드록실 라디칼을 통해 난분해성 유기물 및 미량오염물질을 제거하는 공정
평상시 UV 조사로 인한 물 속 미생물 살균(염소소독으로 처리가 어려운 Cryptosporidium등이처리)
오염물질 발생 시 AOP 공정으로 전환, 산화제 투입으로 인한 물 속 유기물 제거
소독 및 AOP (Advanced Oxidation Process)의 복합운영을 통한 운영비 절감
이취미 유발 물질 제서
산업 폐기물의 유기 오염을 제거
재 이용수를 이용하여 음용수를 생산하는 DPR 공정에도 적용 가능
Standard Specification
| 모듈 사양 | |
| 재질 | StSt 316, 전해연마, 산처리 |
| 램프타입 / 입력전원 | 중압 UV 램프 / 0.5kW~24kW |
| 세척시스템 | 모터 구동형 자동세척 시스템 |
| 사용온도 | 5℃~65℃ |
| 연결규격 | P16, DN, ANSI150, JIS, KS |
| 동작 / 최대 압력 | 10bar / 15bar |
| 외함 사양 | |
| 재질 | RAL 7032, Mild steel (Option StSt 304) |
| 보호등급 | IP54 / NEMA 4X |
| 시스템 제어반(SCP) | |
| 컨트롤러 | PLC |
| 전압 / 주파수 | 220V~480V / 50/60Hz |
| 사용온도 | 0℃~50℃ |
| 전원공급(PSP) | |
| 안정기 형식 | 가변출력형 전자식 안정기 |
AOP (Advanced Oxidation Process) 원리
과산화수소의 광분해 단계
1step. 물에 용해된 과산화수소
2step. 광자를 흡수하는 과산화수소 분자
3step. 매우 높은 에너지와 반응성의 하이드록실 라디칼 형성
물기잔류물질로 완전분해 단계
4step. 오염물질을 공격하는 하이드록실 라디칼
5step. 동시에 발생하는 광분해
6step. 오염물질을 분해시키는 하이드록실 라디칼
* 반응의 완결 : 이산화탄소, 물로 전환된 오염물질
고도정수처리 기술비교표
| 처리공법 | 처리대상오염물질 | 부산물 /위험물질 |
폐기물 | 비용 (초기투자/유지관리) |
||||||
| NDMA와 1,4Dioxane |
농약 | VOCs | Taste &Odor |
MTBE | 환경호르몬 | 소독 | ||||
| UvPhotolysys와 UVOxidation | 000 | 000 | 00 | 000 | 00 | 00 | 00 | 최소 | 매년 교체되는 램프 (계획된 재활용 시설에서 처리) |
\\/\\ |
| 오존 | 000 | 00 | 000 | 0 | 00 | 00 | Bromate 발암물질 | 배기되는 오존가스의 처리 | \\\/\\\ | |
| 막분리(RO) | 00 | 00 | 0 | 0 | 000 | 0 | 오염된 폐기물 /brine농축물 |
유입유량의 20% 이르는 농축 Brine 처리 | \\\/\\ | |
| 활성탄 흡착 | 000 | 000 | 00 | 00 | 00 | 오염된 폐기용 활성탄 | 오염물질들이 흡착된 폐활성탄의 처분 또는 재생 | \/\\ | ||
| Air Stripping | 00 | 000 | 0 | 오염된 배기가스 | 기화된 오염물질 (추가적인 폐가스 처리시설 필요) |
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CFD Modeling
CFD 분석으로 중압 UV 시스템의 산화제 혼합, UV 강도 및 성능을 예측합니다.
CFD 분석으로 저압 UV 시스템의 산화제 혼합, UV 강도 및 성능을 예측합니다.
저압UV-AOP
전력 효율이 높고 수명이 긴 UV SolaRay 기술 적용으로 인한 유지비용 감소
254nm의 단일 파장 UV 조사를 통한 소독 및 산화 효율 극대화
모듈형식으로 용량증설이 용이
CFD-RED 해석 및 장시간 현장 시험에 의해 검증된 성능
유량 및 수질 변화에 따른 자동제어 알고리즘 탑재(Option)
자동세척시스템이 적용되어 안정적인 성능 유지(Option : 기계화학세척장치)
이취미 물질(2-MIB, Geosmin) 및 난분해성 유기물질 제거
Standard Specification
| 모듈 사양 | |
| 재질 | StSt 316, 전해연마, 산처리 |
| 램프타입 / 입력전원 | 저압 UV 램프 / 320W~1000W |
| 세척시스템 | 모터 구동형 자동세척 시스템 |
| 사용온도 | 5℃~65℃ |
| 연결규격 | P16, DN, ANSI150, JIS, KS |
| 동작 / 최대 압력 | 10bar / 15bar |
| 외함 사양 | |
| 재질 | RAL 7032, Mild steel (Option StSt 304) |
| 보호등급 | IP54 / NEMA 4X |
| 시스템 제어반(SCP) | |
| 컨트롤러 | PLC |
| 전압 / 주파수 | 220V~480V / 50/60Hz |
| 사용온도 | 0℃~50℃ |
| 전원공급(PSP) | |
| 안정기 형식 | 가변출력형 전자식 안정기 |
System Layout
중압UV-AOP
반응기 / 램프 수가 적어 유지관리 용이
LP UV system 대비 부지 면적 약 70% 절감
Flange 타입에 의한 추가 증설 및 설치 용이
CFD-RED 해석 및 장시간 현장 시험에 의해 검증된 성능
유량 및 수질 변화에 따른 자동제어 알고리즘 탑재(Option)
저압 자외선 램프보다 월등한 자외선 강도 및 넓은 파장대의 자외선 조사
LP UV system 대비 낮은 초기 투자비용
자동세척 시스템 적용을 통한 안정적인 성능 유지 (Option : 기계화학세척장치)
CFD 해석을 통한 Baffle 설치로 반응기내 유동 안정화
뛰어난 맛냄새 물질(2-MIB, Geosmin) 및 난분해성 유기물질 제거 성능
Gallery
C. 수처리장 (LP UV System)
N. 식수 처리장 .(국내최초) – LP UV System
D. 클러스터 (MP UV System)
N. 수처리장 (MP / LP UV System)
