NEOTEC UV

버블 클린시스템

Bubble Clean System

특허 받은 버블 클린 기술

와이퍼 하우징 내부 나선형 가이드 홈을 따라 마이크로 버블 + 화학세정액이 석영관 외주면을 따라 고속의 나선형 이동을 하여 세정 효율을 극대화 시킨 석영관 세척 시스템

온도가 증가함에 따라 용해도가 감소하는 화합물 (예: CaCo3, CaSO4, MgCO3 FePO4, FeCO3, Al2(SO4)3)의 침전물 발생 (EPA 2003).
광화학 반응에 의한 램프 슬리브 오염 생성(Derrick 2005)
무기물질과 이물질에 의한 램프 슬리브 표면 침전 발생 (Lin etal., 1999a, Walt et al. 2005)

Offline Chemical Cleaning
(OCC)

반응기 가동 중단 후, 드레인하고 세척액을 반응기 내부로 분사 또는 충진하여 오염물질을 용해시키는 시스템.
(화학적 처리)

On-line Mechanical Cleaning
(OMC)

기계식 와이퍼가 슬리브를 따라 움직이며 물리적으로 오염물을 제거 하는 시스템.
(물리적 처리)

On-line Mechanical-Chemical Cleaning (OMCC)

와이퍼 내부에 세정용액으로 채워진 칼럼이 램프 슬리브 표면을 따라 움직이며 오염물을 용해시키고, 와이퍼에 의해 물리적으로 제거하는 시스템.
(물리+화학적 처리)

기존 OMCC 시스템	Bubble Clean
주입된 화학세정액의 지속적인 오염	오염 정도의 확인 및 교체가 간편
주입된 화학세정액이 손실 시 석영관 하부만 세정	우려없음
단 1개의 석영관 교체 시에도 화학세정액을 모두 제거 후 재주입	필요없음
와이퍼링 씰링이 손상 시, 화학세정액 반응기내 유출 문제	씰링재누수에 대한 자동 감시 및 자동 차단
보듈 전체를 개별로 지상 인양하여 주입해야 하는 번거로움 cf) 대규모 하수 처리장의 경우, 수백여개의 모듈 인양 및 세정액 교채가 필요 (작업시간 : 수일)	지상의 1개의 세정액 탱크 드레인 후 충진으로 완료 cf) 모듈 수에 관계엇이 수분 내 교체 완료